Генеральный директор Intel Лип-Бу Тан считает, что Китай уже не так сильно отстаёт от США в технологиях производства микросхем. Об этом он рассказал в интервью Nikkei Asia, комментируя американские санкции, которые ограничивают доступ китайских компаний к передовым установкам EUV-литографии.
Отвечая на вопрос о том, сможет ли Китай догнать США в ближайшие пять-десять лет, Тан ограничился коротким замечанием: «Сегодня, я думаю, он не так уж далеко позади». При этом глава Intel подчеркнул, что у компаний из разных стран есть свои сильные и слабые стороны, а успех в конечном счёте зависит от того, насколько хорошо их продукты отвечают потребностям клиентов.
На фоне этих заявлений внимание привлёк прогресс китайской компании, известной как Landau, которая представила прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения для EUV-литографии. По заявленным данным, он способен работать до 100 часов при мощности 15 Вт. Для сравнения, ранние промышленные установки ASML использовали источники мощностью 150 Вт, а последующие улучшения позволили довести показатель до 250 Вт.
Однако важна не только мощность: EUV-системам необходимо генерировать излучение, многократно воздействуя на капли олова каждую секунду, поэтому длительная стабильная работа остаётся серьёзной инженерной задачей. Сам Тан также говорил о планах Intel развивать собственное контрактное производство, способное конкурировать с TSMC, но подчеркнул, что для этого нужны время и последовательная работа.
Источник: www.goha.ru