Передовиком освоения использования литографического оборудования с высокой числовой апертурой (High-NA) принято считать компанию Intel, которая уже активно экспериментирует как минимум с двумя такими машинами, стоимость которых измеряется сотнями миллионов долларов. TSMC стояла второй в очереди на получение такого оборудования от ASML, но внедрять его ранее 2028 года в массовом производстве чипов не собиралась. Теперь корейские СМИ сообщают, что в начале этого месяца Samsung получила от ASML первый литографический сканер TwinScan EXE:5000, позволяющий работать с High-NA EUV.
Опыт, полученный при использовании данного оборудования, пригодится Samsung при массовом производстве чипов по технологиям тоньше 2 нм. По состоянию на четвёртый квартал прошлого года Samsung довольствовалась 8,1% мирового рынка услуг по контрактному производству чипов. Чтобы не растерять позиции под натиском конкурентов ещё сильнее, корейской компании важно своевременно начинать освоение новых литографических норм.
Источник: overclockers.ruПохожие новости:
Правда ли, что лучший смартфон Realme 2025 модельного года лучше Самсунга S24 Ultra начала 2024 года
Вам врут, когда говорят, что китайские смартфоны во всём превзошли iPhone. Вот в чём они конкретно лучше
Глава ASML считает, что из-за санкций США китайская полупроводниковая промышленность отстанет на 15 лет
Снижение прогноза по выручке ASML говорит о некотором перенасыщении рынка оборудованием для выпуска чипов