Шаг к технологической независимости: в России рассчитывают запустить литограф для чипов 130 нм уже в 2027 году
Россия планирует сделать очередной шаг в развитии собственной микроэлектроники. Как сообщил вице-премьер РФ Денис Мантуров, уже в 2027 году в стране может появиться отечественная литографическая установка, предназначенная для выпуска микросхем по техпроцессу 130 нм. По словам чиновника, в 2025 году российские специалисты уже создали литограф на 350 нм, а следующим этапом станет переход к более