В лаборатории города Шэньчжэнь завершена сборка прототипа установки для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). Это оборудование критически важно для создания современных полупроводников, которые используются в смартфонах, системах искусственного интеллекта и оборонной промышленности. Разработка велась в условиях строгой секретности командой инженеров, включая бывших сотрудников голландского гиганта ASML, при координации со стороны Huawei.
Прототип, работа над которым завершилась в начале 2025 года, занимает почти целый заводской этаж. Хотя установка уже успешно генерирует необходимое излучение, она пока проходит этап тестирования и еще не начала выпуск готовых микросхем. Ранее эксперты предполагали, что Китаю потребуется не менее десятилетия, чтобы сократить технологический разрыв с Западом в этой области. Однако текущие успехи указывают на то, что работающие чипы могут быть получены уже к 2028–2030 годам.
Для реализации проекта Китай активно привлекает специалистов из-за рубежа и использует компоненты от старого оборудования, закупленного на вторичных рынках. Привлекая иностранных специалистов Китай готов платить им до 5 млн юаней (примерно 70 млн рублей) в виде бонусов и грантов. Несмотря на значительный прогресс, инженеры все еще сталкиваются с техническими трудностями, особенно в части воспроизведения сложных оптических систем. Тем не менее создание действующего прототипа считается серьезным шагом на пути к технологической независимости страны в полупроводниковой сфере.
Источник: mobile-review.com