Ученые Новосибирского государственного университета разработали цифровой двойник процесса производства микроэлектроники. Система предназначена для технологии фотолитографии — метода нанесения рисунка на поверхность материалов, который широко используется при создании микросхем и печатных плат.
Как сообщил глава проекта Центра ИИ НГУ Михаил Марченко, платформа будет размещена на предприятиях микроэлектронной промышленности в Новосибирске и Нижнем Новгороде. Разработка позволит повысить эффективность выпуска новых изделий за счет оптимизации технологических процессов.
Цифровой двойник собирает данные с оборудования, позволяет настраивать его дистанционно и предсказывать возможные поломки. Ученые создали модель фотолитографа — устройства, которое переносит изображение с фотошаблона на поверхность будущей микросхемы. Система способна одновременно управлять десятками параметров, тогда как человек обычно учитывает лишь несколько.
По оценкам разработчиков, это даст существенную экономию времени при подборе технологических решений. Проект реализуется по заказу Сбера и уже вызвал интерес на предприятиях, включая Новосибирский завод полупроводниковых приборов.
Источник: www.ferra.ru