На предприятии «Росатома» будет создан первый в России производственный участок по выпуску особо чистого гексафторида вольфрама. Разработкой занимается АО «НИИ НПО „Луч“» в Подольске. Оно входит в Научный дивизион госкорпорации «Росатом».
Сотрудники института вместе с российскими учёными и отечественными компаниями создали полную цепочку оборудования для производства гексафторида вольфрама. Технология и схема производства разработаны в рамках контракта с Минпромторгом России в 2023–2024 годах.
Создание участка направлено на импортозамещение и обеспечение технологической независимости. Сейчас страна зависит от зарубежных поставок этого вещества. Новый участок будет включать полный набор технологического и аналитического оборудования для получения особо чистого гексафторида вольфрама.
Работы выполняются в сотрудничестве с учёными Нижегородского государственного университета имени Н. И. Лобачевского, компании «Ферри Ватт», Института химии высокочистых веществ имени Г. Г. Девятых РАН и Томского государственного университета. Разработано уникальное оборудование. Изготовлены лабораторная и опытная установки для сорбционной очистки гексафторида вольфрама. Создана опытная установка для ректификационной очистки.
Также завершены разработка и аттестация методов измерения примесей в газе. Это касается как газовых, так и металлических примесей. Все разработки учитывают современные требования охраны труда и экологической безопасности.
Гексафторид вольфрама используется в микроэлектронике. Он применяется при производстве полупроводников для осаждения металлического слоя из газовой фазы. Такой слой отличается высокой стойкостью, низким сопротивлением и защищает платы и схемы. Также вещество используют для получения покрытий и изделий из высокочистого вольфрама с помощью водородного восстановления и химических транспортных реакций.
Источник: habr.com