Китайский производитель полупроводников, компания SMIC, добилась получения качественных чипов, выполненных по 5-нм технологическому процессу, без использования современных литографических машин EUV. Компания использовала старый процесс глубокого ультрафиолета DUV в сочетании с процессом SAQP. Несмотря на то, что технология китайской компании намного сложнее в реализации, чем EUV-процесс, и обеспечивает существенно меньший выход годных чипов, это достижение может кардинальным образом изменить мировую полупроводниковую промышленность. Освоение новой технологии позволит Китаю самостоятельно разрабатывать новые чипы для искусственного интеллекта и связи 5G без оглядки на ограничения со стороны США. Стало известно, что китайский производитель уже экспериментировал со своей технологией для получения чипов, выполненных по 3-нм технологическому процессу. В случае успеха это позволит Китаю перестать опираться на решения американских властей в поставках чипов и может привести к значительному прогрессу в производстве процессоров и чипов для работы с искусственным интеллектом.
Источник: mobile-review.com
Похожие новости:
«Слушая подкасты, ничего не узнаешь, ты должен устать, упасть без задних ног — такой должна быть встреча с образованием»
TSMC потратит 4 млрд долларов на EUV-машины для 2-нм техпроцесса
Уровень «цифровой зрелости» компаний в России выше, чем в среднем по миру
Гиперперсонализация: как сделать предложение пользователю релевантным