Неделю назад АО «Зеленоградский нанотехнологический центр» сообщило о завершении разработки первого российского литографического комплекса для работы с технологическими нормами 350 нм. Оборудование прошло процедуру приёмки государственной комиссией, ЗНТЦ теперь может приступить к адаптации этого литографа под нужды конкретных заказчиков, а также приступил к заключению контрактов на поставку оборудования.
По словам руководства АО «ЗНТЦ», важной особенностью данного оборудования является использование твердотельного лазера в качестве источника излучения вместо более традиционных по мировым меркам ртутных ламп или эксимерных лазеров, работающих в газовой среде. Твердотельный лазер, по словам создателей оборудования, обеспечивает более высокую мощность и энергоэффективность, более узкий спектр излучения и высокую долговечность.
Ещё важнее то, что в следующем году ЗНТЦ намерен завершить работы по созданию литографа, рассчитанного на работу с 130-нм техпроцессом. Компании важно навёрстывать упущенное, поскольку российским правительством определены следующие сроки развития отечественного литографического оборудования: к 2027 году нужно освоить 28-нм технологию, а к концу десятилетия — 14-нм. Кстати, помощь в разработке литографических систем АО «ЗНТЦ» оказывала компания ОАО «Планар» из Республики Беларусь.
Источник: overclockers.ru
