Intel поделилась успехами в подготовке к выпуску чипов по технологии 14A

Пару литографических машин TwinScan EXE:5000 компания Intel получила от ASML ещё в прошлом году, и это было первое оборудование с высокой числовой апертурой (High-NA EUV), которое нашло практическое применение в сфере производства чипов. Первоначально компания рассчитывала использовать его ещё в рамках технологии Intel 18A, но только для экспериментов, поскольку при массовом производстве чипов по техпроцессу Intel 18A не собиралась применять дорогостоящее оборудование класса High-NA EUV.

Источник изображения: Intel

Как отмечает Reuters, за квартал при помощи двух сканеров ASML нового поколения Intel удалось обработать 30 000 кремниевых пластин, и уровень брака оказался в два раза ниже, чем на первых этапах освоения базовой EUV-литографии. В целом, EUV-технологии Intel внедряет в производство уже семь лет подряд, и первые итоги эксплуатации оборудования класса High-NA компанию воодушевляют.

Важно и то, что новое оборудование позволяет быстрее изготавливать чипы. Если ранее на обработку кремниевых пластин с одним и тем же результатом требовались три экспозиции и 40 технологических операций, то оборудование класса High-NA EUV сокращает количество экспозиций до одной, а количество технологических операций до менее чем десяти.

Применять оборудование такого класса в массовом производстве Intel начнёт только в рамках технологии 14A, которую освоит не ранее следующего года. При этом фактически для этого ей потребуются литографические сканеры ASML уже нового поколения, TwinScan EXE:5200, которые она скоро начнёт получать от поставщика. Для сравнения, TSMC подобное оборудование рассчитывает внедрить у себя на производстве не ранее 2028 года.

Источник: overclockers.ru
0 0 голоса
Рейтинг новости
1
0
Подписаться
Уведомить о
0 комментариев
Межтекстовые Отзывы
Посмотреть все комментарии