Глава молодой японской компании Rapidus Ацуёси Коикэ (Atsuyoshi Koike) в интервью Nikkan Kogyo Shimbun заявил, что на двух своих предприятиях компания в общей сложности готова задействовать до 10 литографических сканеров класса EUV, позволяющих наладить выпуск 2-нм и более совершенных чипов. Первый из них она уже получила в прошлом месяце и собирается установить на первом предприятии IIM-1, которое будет полноценно введено в строй к 2027 году.
В апреле Rapidus начнёт выпуск опытных образцов 2-нм чипов, уже к июню их может получить для испытаний американская компания Broadcom. Когда будет построено второе предприятие Rapidus, не уточняется, но на нём вполне вероятно будут изготавливаться уже 1,4-нм чипы. Технологическим партнёром Rapidus выступает американская компания IBM, что и позволяет молодому игроку рынка в сжатые сроки осваивать передовые литографические технологии.
Источник: overclockers.ruПохожие новости:
Rapidus стремится к полной автоматизации своего предприятия по выпуску 2-нм чипов
Японская Rapidus отправила 100 специалистов в США для обучения выпуску 2-нм чипов
Rapidus надеется наладить выпуск 2-нм чипов для Microsoft или Apple
Японская Rapidus приступила к монтажу EUV-оборудования для производства 2-нм чипов