Агентство Nikkei сообщило, что прибытие первого в Японии EUV-сканера ASML ожидается на остров Хоккайдо в середине декабря текущего года. Такое оборудование планируется использовать на строящемся предприятии Rapidus для производства 2-нм чипов, которое будет налажено к 2027 году. На этой площадке в дальнейшем расположится несколько таких сканеров, а общее количество литографического оборудования превысит 200 штук.
Строительство первого предприятия Rapidus в Японии началось в сентябре прошлого года, сейчас оно завершено на 63%, что полностью соответствует первоначально намеченному графику. К опытному производству 2-нм чипов Rapidus рассчитывает приступить в апреле следующего года. Если проект позволит успешно наладить выпуск 2-нм изделий к 2027 году, то к концу десятилетия Rapidus надеется построить второе предприятие, на котором освоит производство 1,4-нм чипов.
Источник: overclockers.ruПохожие новости:
Rapidus стремится к полной автоматизации своего предприятия по выпуску 2-нм чипов
Японская Rapidus отправила 100 специалистов в США для обучения выпуску 2-нм чипов
Японская Rapidus будет привлекать под выпуск 2-нм чипов финансовые гарантии государства
TSMC потратит 4 млрд долларов на EUV-машины для 2-нм техпроцесса