Власти США выделили $825 млн на строительство исследовательского центра, который займётся EUV-литографией в штате Нью-Йорк

Предвыборная гонка, как даёт понять Reuters, не мешает администрации президента Байдена раздавать субсидии на развитие национальной полупроводниковой отрасли США, в полном соответствии с принятым в 2022 году «Законом о чипах». В штате Нью-Йорк будет построен исследовательский центр, специализирующийся на вопросах литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Соответствующая технология нужна для выпуска чипов по передовым нормам тоньше 7 нм.

Источник изображения: Samsung Electronics

На строительство данного центра будет выделено $825 млн. Управлять работой данной площадки будет Национальный центр полупроводниковых технологий (NTSC). Если учесть, что в этой местности ещё со времён активной деятельности IBM ведутся профильные разработки, выбор штата Нью-Йорк в качестве региона строительства центра весьма оправдан. По соседству расположены и производственные мощности компании GlobalFoundries, которая в своё время от освоения EUV-литографии отказалась из-за слишком высоких затрат, но кто знает, как вектор рынка может повернуться в будущем…

Источник: overclockers.ru
0 0 голоса
Рейтинг новости
1031
0
Подписаться
Уведомить о
0 комментариев
Межтекстовые Отзывы
Посмотреть все комментарии