По информации TrendForce, на сайте Министерства промышленности и информационных технологий КНР появилось упоминание о новом оборудовании, позволяющем изготавливать чипы по 8-нм технологии, которое было разработано силами китайских специалистов. Напомним, что западные производители для выпуска чипов по 7-нм технологии и более совершенным стараются использовать литографическое оборудование класса EUV, работающее с длиной волны 13,5 нм. Более старое оборудование класса DUV можно приспособить для выпуска 7-нм чипов, чем и занялась SMIC, но уровень выхода годной продукции и её себестоимость при этом будут далеки от идеала.
Как отмечается в правительственном каталоге, Китай уже располагает технологиями создания оборудования, которое позволяет работать с длиной волны 248 нм и кремниевыми пластинами типоразмера 300 мм при создании полупроводниковых компонентов с разрешающей способностью менее 65 нм и точностью послойного совмещения не более 8 нм.
По сути, такое оборудование позволяет выпускать китайским производителям чипы по 8-нм технологии класса DUV. Когда и в каких количествах оно будет доступно, не уточняется, но предполагается, что в разработке такого оборудования участвовали китайские компании AMEC и SMEE, а также государственные научно-исследовательские учреждения.
Источник: overclockers.ruПохожие новости:
Китайская AMEC пытается добиться снятия американских санкций через суд
Обзор IT-Weekly: Южная Корея планирует вложить в полупроводниковый хаб $0,5 триллиона, Китай вдвое нарастит производство чипов в ближайшие пять лет
Сверхпроводящий токамак | Рентген в смартфоне | Теневая камера | Контакты для 2D-чипов
Китайские производители оборудования для выпуска чипов разрабатывают компоненты для EUV-литографии