Так называемое EUV-оборудование работает с длиной волны лазера 13,5 нм, что примерно в 14 раз меньше, чем у DUV-систем. По этой причине выпускать 7-нм и более совершенные чипы с использованием EUV-сканеров не только дешевле, но и технически проще. ASML поставки EUV-оборудования в Китай не смогла начать ещё в 2019 году, поскольку получила запрет властей Нидерландов на подобную деятельность. Как сообщает сайт South China Morning Post, китайские производители литографического оборудования пытаются освоить соответствующие технологии самостоятельно.
По крайней мере, серийно выпускающая сейчас только системы для работы с 28-нм техпроцессом и более грубыми шанхайская компания SMEE ещё в марте прошлого года зарегистрировала патентную заявку, описывающую принципы устройства источника сверхжёсткого ультрафиолетового излучения (EUV). Если описываемые в патенте технологии SMEE сумеет применить на практике, то в какой-то перспективе сможет наладить поставки китайских EUV-систем для производства более совершенных полупроводниковых компонентов.
Источник: overclockers.ru
