Выступление главы бельгийской исследовательской компании Imec Люка Ван ден хова (Luc Van den hove) на технологическом форуме в Тайбэе закономерно привлекло внимание тайваньских источников, и именно с их подачи стало известно, что выпуск продукции по технологии A14 в обязательном порядке будет подразумевать использование литографического оборудования с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV). Это значит, что сопротивляющаяся его применению компания TSMC после 2026 года неизбежно перейдёт на такое оборудование, хотя и не будет его использовать при выпуске чипов по технологии A16 в 2026 году.
Глава Imec назвал ещё несколько этапов в развитии мировой литографической промышленности, через которые ей предстоит пройти в ближайшие лет пятнадцать. Во-первых, уже в следующем году будет освоен массовый выпуск 2-нм чипов (A2). Во-вторых, в 2027 году не только будет освоена технология A14, но и активно начнёт внедряться структура транзисторов с нанолистами, которые заменят собой FinFET. К 2037 году будет освоена технология A2 (0,2 нм), но перед этим в рамках техпроцесса A7 должен состояться переход на структуру транзисторов CFET. По мнению руководства Imec, рубеж в 0,1 нм (A1) будет покорён представителями полупроводниковой отрасли к 2040 году. Конечно, до этого момента слишком далеко, чтобы говорить об этом с абсолютной уверенностью.
Источник: overclockers.ru
