По информации Commercial Times, в настоящее время спрос на EUV-сканеры ASML сильно превышает предложение, а потому заказанную систему клиентам приходится ждать от 16 до 20 месяцев. В следующем году ASML заметно увеличит объёмы выпуска литографических сканеров поколения EUV, с 53 до 72 штук. Компания TSMC на правах одного из крупнейших клиентов рассчитывает закупить у ASML около 30 таких систем в этом году и 35 штук в следующем, потратив на соответствующие нужды не менее $12,3 млрд.
Производственные планы ASML на следующий год подразумевают выпуск до 90 литографических сканеров для работы с EUV, но это количество может быть не достигнуто в случае корректировки суммы капитальных затрат или ухудшения конъюнктуры рынка. Помимо этого, ASML рассчитывает в следующем году выпустить 600 сканеров для работы с DUV-литографией, которые позволяют производить чипы по более зрелым техпроцессам. Наконец, передовых систем класса High-NA EUV будет выпущено не более 20 штук, и все они будут предназначаться для исследовательских работ, а не массового производства чипов. Если говорить о TSMC, она собирается в 2025 году освоить выпуск 2-нм изделий сразу на трёх предприятиях на Тайване, но ей для этого понадобится только обычное EUV-оборудование.
Источник: overclockers.ruПохожие новости:
Руководство TSMC всё же проявляет интерес к оборудованию ASML поколения High-NA EUV
ASML задумалась о создании литографических сканеров со сверхвысокой числовой апертурой
Передовые сканеры High-NA EUV компании ASML начал получать её второй крупный клиент
ASML заявила о возможности отключить «самые сложные в мире» станки для производства чипов в Тайване