Способность TSMC наладить выпуск чипов по технологии A16 без использования литографических сканеров с высоким значением числовой апертуры (High-NA EUV) вовсе не означает, что крупнейший контрактный производитель соответствующими технологическими возможностями не интересуется. Просто сроки внедрения данных технологий на производстве TSMC будут определяться с учётом экономической целесообразности. Ещё на прошлой неделе издание DigiTimes сообщило, что генеральный директор TSMC Си-Си Вэй (C.C. Wei) ради визита на предприятия ASML в Нидерландах отказался от участия в технологическом форуме на Тайване.
Его нидерландский коллега Кристоф Фуке (Christophe Fouquet), который с недавних пор возглавляет ASML, поделился своими впечатлениями от этой встречи на страницах одной из социальных сетей. Следующим этапом командировки в Европу для главы TSMC стал визит в Германию на предприятия местного производителя промышленных лазеров TRUMPF. По словам руководителя ASML, тайваньскому гостю во время его визита в Нидерланды демонстрировались образцы литографических сканеров поколения High-NA EUV. Даже если TSMC не будет применять их до 2026 года, освоив выпуск продукции по технологии A16 без их использования, в дальнейшем такое оборудование тайваньской компании явно пригодится, поэтому интерес к нему руководству TSMC долго скрывать не удастся.
Источник: overclockers.ruПохожие новости:
Оборудование High-NA EUV компания TSMC начнёт использовать не ранее 2029 года
TSMC считает High-NA EUV слишком дорогим удовольствием, но присматривается к соответствующему оборудованию
Передовые сканеры High-NA EUV компании ASML начал получать её второй крупный клиент
В прошлом квартале Китай формировал 39% выручки ASML