Японская компания Canon уже готова поставлять клиентам оборудование для нанопечати чипов, которое при в десять раз меньшей стоимости по сравнению с литографическими сканерами ASML позволяет обеспечивать разрешающую способность, сопоставимую с параметрами 5-нм техпроцесса.
На прошлой неделе представители Micron Technology заявили, что технология нанопечати может быть использована при производстве отдельных слоёв микросхем DRAM. С одной стороны, изготавливать эти слои методом нанопечати можно дешевле, а с другой стороны, технология обеспечивает более высокое разрешение по сравнению с оптической литографией. Тем более, что требования к точности позиционирования в этом случае не так высоки, как при производстве слоёв памяти классическим методом. В отличие от оптической литографии, метод нанопечати не накладывает ограничения на геометрическую форму воспроизводимых элементов, что также позволяет использовать новый тип оборудования при производстве микросхем памяти.
Источник: overclockers.ru