Компания ASML отгрузила первый литографический сканер семейства Twinscan EXE:5000 с поддержкой технологии High-NA EUV для нужд компании Intel ещё в прошлом году, но получать контейнеры с оборудованием последняя начала уже в январе текущего года. Пока Intel собирает и устанавливает этот передовой литографический сканер у себя в лаборатории в штате Орегон, агентство Reuters сообщает об успешном запуске такого сканера на территории Нидерландов специалистами самой ASML. Эта компания не производит чипы, но должна испытывать своё оборудование, поэтому другой экземпляр сканера Twinscan EXE:5000 недавно успешно осуществил проекцию фотошаблона на кремниевую пластину в Нидерландах.
О полноценном функционировании литографической системы речь пока не идёт, но данный шаг хотя бы позволяет убедиться в работоспособности сканеров этой модели как таковой. Напомним, Intel собирается в Орегоне экспериментировать с таким оборудованием в сочетании с техпроцессом Intel 18A, но в серийном производстве технологию High-NA EUV внедрит не ранее 2026 года, когда будет освоен выпуск чипов по техпроцессу Intel 14A. Естественно, для выпуска продукции по технологии Intel 10A в 2027 году такие сканеры Intel тоже понадобятся, поэтому ей уже сейчас приходится готовить оборудование к экспериментам.
Источник: overclockers.ru
