Поставив первый экземпляр литографической системы с высокой числовой апертурой компании Intel ещё в позапрошлом месяце, нидерландская компания ASML, как поясняет Bloomberg, только сейчас решилась пригласить на своё предприятие журналистов, которым показала ещё один экземпляр литографического сканера нового поколения. Один такой аппарат стоит $380 млн, его более совершенная оптика позволяет создавать на кремниевой подложке элементы толщиной не более 8 нм, плотность размещения транзисторов в итоге удаётся увеличить в три раза. Система массой 150 тонн в разобранном состоянии занимает 250 контейнеров, а для её монтажа коллективу из 250 инженеров требуется около шести месяцев.
Представители ASML пояснили, что в этом году компания выпустит несколько экземпляров таких сканеров с высокой числовой апертурой, а к 2028 году надеется выйти на ежегодный выпуск 20 таких систем. В серийном производстве, по оценкам компании, они начнут применяться с 2026 или 2027 года. Сторонние аналитики с такими прогнозами не согласны, отодвигая этот рубеж на 2030 год из экономических соображений. По словам представителей ASML, использованием таких сканеров уже интересуются не только TSMC и Samsung, но и производители памяти Micron и SK hynix. Впрочем, если учесть, что та же Micron довольно долго готовилась к внедрению EUV-сканеров на своём производстве, можно предположить, что при выпуске памяти системы класса High-NA начнут применяться только в следующем десятилетии.
Источник: overclockers.ru
